在創(chuàng)新驅動發(fā)展的時代，專利的重要性不言而喻。然而，很多人對專利存在一些認知誤區(qū)，這些誤區(qū)可能會讓創(chuàng)新者錯失保護自己成果的良機。今天，就讓我們一起來糾正這些誤區(qū)。
                                                                       
誤區(qū)一：自主研發(fā)產(chǎn)品無需申請專利就能獲得保護。
 
       一些創(chuàng)業(yè)者或發(fā)明人認為，只要是自己研發(fā)的產(chǎn)品，無需申請就能獲得保護，甚至在公開場合發(fā)表了就表示擁有了該項知識產(chǎn)權的保護。但實際上，專利是一種壟斷權，以在先申請為原則。自主研發(fā)的技術成果如果不申請專利，就得不到法律確認和保護。一旦出現(xiàn)侵權行為，該項自主研發(fā)成果無法獲得法律保護。
 
       在我國，專利申請采用先申請原則，具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請，專利就授予誰。如果發(fā)明人不及時申請，被他人搶先申請并被授予專利權，不僅無法追究他人的法律責任，甚至自己會成為被告。因此，一旦有合適的產(chǎn)品，應盡快申請專利，以便獲得保護。
 
誤區(qū)二：產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)或運營后不再申請專利。
 
       部分權利人或發(fā)明人認為申請了一項或者幾項專利后，就能永遠獲得保護，并且忽視后續(xù)研發(fā)或者申請工作。即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。這種一勞永逸的思想，會限制專利的延伸和專利保護。
 
       如果他人針對已申請的產(chǎn)品進行了改進，并且獲得了專利授權，就會影響原專利價值的發(fā)揮，甚至會導致原專利權人變成侵權人。特別是在很多行業(yè)產(chǎn)品更新?lián)Q代比較快的情況下，如果沒有及時跟上專利申請的進程，就會落入這個誤區(qū)陷阱。
                                                                                         
誤區(qū)三：創(chuàng)意沒有成型的產(chǎn)品或者投入生產(chǎn)，無需申請專利。
 
       很多權利人或發(fā)明人認為，專利一定要有實際的產(chǎn)品，或者投入生產(chǎn)的工藝流程，才能申請專利。這是對專利申請保護認識不足造成的。
 
       實際上，專利只要有切實可行的想法，甚至是只有設計圖紙或者思路，符合專利授權的三要素，就可以申請專利了。這樣既能獲得專利保護，還能占領先機，更重要的是投入的成本也是最低的。而且，如果在產(chǎn)品或者工藝思路被公開后再申請專利，即使獲得了授權，侵權人也會以專利申請之日技術已經(jīng)被公開為由進行抗辯，有些專利無效就是針對這種創(chuàng)意或者設計產(chǎn)品被提前公開進行的。
 
       總之，我們要正確認識專利，走出這些認知誤區(qū)，及時申請專利，為自己的創(chuàng)新成果保駕護航。只有這樣，我們才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地，推動科技創(chuàng)新不斷向前發(fā)展。